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更新日:令和3(2021)年10月5日

ページ番号:12816

主要設備(走査型電子顕微鏡システム(SU6600)):天台庁舎

1.真空機能付き走査型電子顕微鏡

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概要

本装置はショットキーFE電子銃を搭載しているため試料の高分解能観察評価ができます。また、試料室を低真空(10から300パスカル)に保つことができるため、水分や油分を含んだ試料の観察が可能です。

製造者

株式会社日立ハイテクノロジーズ

型番

SU6600

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

二次電子分解能

1.2ナノメートル(高真空モード)、3.0ナノメートル(低真空モード)

反射電子分解能 3.0ナノメートル(高真空モード)
試料室到達真空度

高真空:7×10-4パスカル、真空:10から300パスカル

SU6600

2.ネルギー分散形X線分析装置

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概要

本装置は電子顕微鏡で観察する際に発生する元素固有のX線(特性X線)を検出分析します。

SDD(Silicon Drift Detector)は、スループットと分解能の優れた窒素レスです。

製造者

アメテックス株式会社

型番

Octane Super

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

検出範囲

Be(4)からAm(95)

冷却方式 ペルチェ冷却
検出素子面積 60ミリメートル2
エネルギー分解能 129eV

EDX

3.オンスパッタ装置

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概要

導電性のない試料(生物、高分子材料など)を走査型電子顕微鏡で観察するとき、試料表面の帯電による像障害を防止するため、本装置で試料表面にPt(白金)、Au(金)等の金属を数ナノメートルから数十ナノメートル程度の厚さでコーティングします。

製造者

株式会社日立ハイテクノロジーズ

型番

E-1045

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

放電方式

ダイオード放電マグネトロン形

時間設定範囲 5から300秒
ターゲット

Pt、Pt-Pd(8:2)、Au、Au-Pd(6:4)

最大試料サイズ 直径:60ミリメートル、さ20ミリメートル

スパッタリング

4.オンミリング装置

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概要

本装置は、走査電子顕微鏡(SEM)、表面分析装置(EDX、EBSPなど)用の試料前処理装置で、アルゴンイオンビームにより試料の表面層の除去や断面試料の最終仕上げに威力を発揮します。

製造者

株式会社日立ハイテクノロジーズ

型番

IM-4000

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能
区分

断面ミリング

平面ミリング

使用ガス

アルゴンガス

加速電圧

0から6キロボルト

最大ミリングレート 毎時約300マイクロメートル材料:Si】 毎時約2マイクロメートル材料:Si】

最大試料サイズ

  • 幅20ミリメートル
  • 奥行き12ミリメートル
  • 高さ7ミリメートル
  • 直径50ミリメートル
  • 高さ25ミリメートル

ミリング

お問い合わせ

所属課室:商工労働部産業支援技術研究所材料技術室

電話番号:043-252-2106

ファックス番号:043-254-6555

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