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更新日:平成27(2015)年10月15日

主要設備(走査型電子顕微鏡システム(SU6600))

1.真空機能付き走査型電子顕微鏡

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概要

本装置はショットキーFE電子銃を搭載しているため試料の高分解能観察評価ができます。また、試料室を低真空(10~300Pa)に保つことができるため、水分や油分を含んだ試料の観察が可能です。

製造者

(株)日立ハイテクノロジーズ

型番

SU6600

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

二次電子分解能

1.2nm(高真空モード)、3.0nm(低真空モード)

反射電子分解能 3.0nm(高真空モード)
試料室到達真空度

高真空:7×10-4Pa、真空:10~300Pa

SU6600

2.ネルギー分散形X線分析装置

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概要

本装置は電子顕微鏡で観察する際に発生する元素固有のX線(特性X線)を検出分析します。
SDD(Silicon Drift Detector)は、スループットと分解能の優れた窒素レスです。

製造者

アメテックス(株)

型番

Octane Super

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

検出範囲

Be(4)~Am(95)

冷却方式 ペルチェ冷却
検出素子面積 60mm2
エネルギー分解能 129eV

EDX

3.オンスパッタ装置

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概要

導電性のない試料(生物、高分子材料など)を走査型電子顕微鏡で観察するとき、試料表面の帯電による像障害を防止するため、本装置で試料表面にPt(白金)、Au(金)等の金属を数nm~数十nm程度の厚さでコーティングします。

製造者

(株)日立ハイテクノロジーズ

型番

E-1045

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能

放電方式

ダイオード放電マグネトロン形

時間設定範囲 5~300sec
ターゲット

Pt、Pt-Pd(8:2)、Au、Au-Pd(6:4)

最大試料サイズ 直径:60mm、さ20mm

スパッタリング

4.オンミリング装置

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概要

本装置は、走査電子顕微鏡(SEM)、表面分析装置(EDX、EBSPなど)用の試料前処理装置で、アルゴンイオンビームにより試料の表面層の除去や断面試料の最終仕上げに威力を発揮します。 

製造者

(株)日立ハイテクノロジーズ

型番

IM-4000

導入年度

2013

備考

この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。

 

主な仕様及び性能
 

断面ミリング

平面ミリング

使用ガス

アルゴンガス

加速電圧

0~6kV

最大ミリングレート 約300μm/h材料:Si】 約2μm/h材料:Si】

最大試料サイズ

20(W)×12(D)×7(H)mm

φ50×25(H)mm
ミリング

よくある質問

お問い合わせ

所属課室:商工労働部産業支援技術研究所材料技術室

電話番号:043-252-2106

ファックス番号:043-254-6555

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