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更新日:平成27(2015)年10月15日

主要設備(電子線後方散乱回折システム)

1.EBSDシステム

概要他一覧

概要

本装置は、走査型電子顕微鏡に取り付けることにより、電子線後方散乱回折パターンを測定・解析し、微小領域の結晶系や結晶方位の分布に関する情報を評価できます。

製造者

アメテック(株)

型番

OIM 7.0 Hikari

導入年度

2014

備考

この設備は地域オープンイノベーション促進事業(経済産業省 平成25年度補正予算事業)により整備しました。

解析可能なデータ

  • 結晶方位マップ
  • 結晶粒(粒界)像
  • 相分布
  • 極点図、逆極点図
  • 方位分布関数、方位差分布関数etc

 EBSDSEMEBSD

2.断面試料加工装置

概要他一覧

概要

本装置は実体顕微鏡で観察しながら試料の切断・研削・研磨を行い、微小領域のターゲットサンプリングが可能です。

製造者

ライカ・マイクロシステムズ

型番

EM TXP

導入年度

2014

備考

この設備は地域オープンイノベーション促進事業(経済産業省 平成25年度補正予算事業)により整備しました。

主な用途

  • SEM試料のイオンミリングの前加工
  • SEM観察用の断面試料作製

SEMETXP

よくある質問

お問い合わせ

所属課室:商工労働部産業支援技術研究所材料技術室

電話番号:043-252-2106

ファックス番号:043-233-4861

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